연구보고서
증강현실용 차세대 디스플레이를 위한 선택적 습윤 현상 기반 초고해상도 퀀텀닷 패턴화 기술 개발 (Selective-wetting-based ultrahigh-resolution quantum dots patterning for virtual reality heed mounted display)
2022 / 한국과학기술원
외부 링크-
- 과제수행기관
- 한국과학기술원
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- 과제연구책임자명
- 정연식
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- 발행년도
- 2022
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- 발행기관명
- 한국과학기술원
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- 발행국가
- 대한민국
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- 사용언어
- Korean
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- 원문URL
- https://scienceon.kisti.re.kr/commons/util/originalView.do?dbt=TRKO&cn=TRKO202200009720
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- 과제관리(전문)기관명
키워드
디스플레이;퀀텀닷;선택적 습윤 현상;패턴화 기술;용액 공정;
keyword
Display;Quantum dot;Selective wetting;Patterning;Solution process;
목차
... 두께의 균일성을 위한 비파괴형 기술 개발... 10 제 2 절 다중 패턴화를 달성하기 위한 얼룩 방지 전략 개발... 11 제 3 절 높은 해상도의 풀 컬러 어레이와 높은 효율의 패턴형 퀀텀닷 발광다이오드 프로토 타입 제작 및 최적화... 12제 4 장 목표달성도 및 관련분야에의 기여도... 13 제 1 절 목표 달성도... 13 제 2 절 관련분야 기여도... 13제 5 장 연구개발 ...
초록
Ⅲ연구개발결과1단계 다중 물질 고른 두께의 패턴을 위한 선택적 습윤 기반 퀀텀닷 패턴화 기술 개발 필름 두께의 균일성을 위한 비파괴형 기술과 다중 패턴화를 달성하기 위한 얼룩 방지 전략을 개발하였다2 단계 높은 해상도의 풀 컬러 어레이와 높은 효율의 패턴형 퀀텀닷 발광다이오드 프로토 타입 제작 및 최적화 높은 해상도의 풀 컬러 어레이를 유기정공 수송층에서 구현하고 ...
Abstract
II Result and discussionStep 1 Development of selective wettingbased quantum dot patterning technology for multimaterial uniformthickness patterns A nondestructive technology for uniformity of film thickness ...